首頁 造句 刻蝕的造句
- 1、采用反應(yīng)離子刻蝕，各向異性化學(xué)腐蝕及自限制熱氧化過程在襯底上制備出高質(zhì)量的超精細(xì)硅量子線。
- 2、由此解釋了無刻蝕鍍鐵層具有高結(jié)合強(qiáng)度的原因。
- 3、蘸水筆技術(shù)是近年來發(fā)展起來的一種新的掃描探針刻蝕加工技術(shù)，有著廣泛的應(yīng)用前景。
- 4、通過納米制備技術(shù)研究者在氮化硅中刻蝕出許多空洞以構(gòu)成所需圖案，使得波導(dǎo)具有合適的隱形折射率。
- 5、用電子束刻蝕法在晶片上鍍上納米級(jí)鋁層形成了電感器。
- 6、本項(xiàng)研究是在分析比較現(xiàn)有各種鍍鐵工藝的基礎(chǔ)上，采用了一種新的無刻蝕鍍鐵及其復(fù)合鍍工藝。
- 7、田納西河刻蝕著坎伯蘭高原的東部邊緣。
- 8、目前，刻蝕技術(shù)已經(jīng)成為集成電路生產(chǎn)中的標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)，干法刻蝕設(shè)備亦成為關(guān)鍵設(shè)備。
- 9、研究常壓等離子射流處理對(duì)羊毛織物正反面染色性的影響，從而探索常壓等離子射流刻蝕在織物中的滲透性。
- 10、并且詳細(xì)論述離子刻蝕的原理以及離子源的參數(shù)設(shè)計(jì)。
- 11、應(yīng)用感應(yīng)耦合等離子體技術(shù)首次實(shí)現(xiàn)了對(duì)銻化銦薄膜的干法刻蝕。
- 12、等離子體低溫刻蝕是一種針對(duì)高深寬比結(jié)構(gòu)的干法刻蝕技術(shù)。
- 13、對(duì)這種結(jié)構(gòu)的形變特性進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)測試，考慮到測量誤差與濕法刻蝕造成膜表面的不平整因素，測實(shí)結(jié)果與模擬結(jié)果較為相符。
- 14、運(yùn)用相位掩模法刻蝕光纖光柵，該方法對(duì)光源的時(shí)間相干性和單色性要求較低，工藝簡單，成品率高。
- 15、列舉一些對(duì)本技術(shù)發(fā)展帶有突破性意義的里程碑，并敘述干法刻蝕技術(shù)在微電子學(xué)和光電子學(xué)等重要應(yīng)用領(lǐng)域的作用。
- 16、通過深紫外光刻和感應(yīng)耦合等離子刻蝕設(shè)備，制備了所設(shè)計(jì)的器件。
- 17、用電子束刻蝕法在晶片上鍍上納米級(jí)鋁層形成了電感器。
- 18、衍射光學(xué)元件在制作過程中，存在掩模對(duì)準(zhǔn)、線寬和刻蝕深度等制作誤差。?
- 19、采用反應(yīng)離子刻蝕，各向異性化學(xué)腐蝕及自限制熱氧化過程在襯底上制備出高質(zhì)量的超精細(xì)硅量子線。
- 20、曲軸修理過程中進(jìn)行曲軸剩余強(qiáng)度校核十分重要，結(jié)合董氏無刻蝕鍍鐵工藝修復(fù)十分可靠。文中以某輪曲軸修復(fù)為例，介紹了鍍鐵修復(fù)工藝及曲軸強(qiáng)度校核計(jì)算。